Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，称回收率达 50%
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据 Tom's Hardware 报道，日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出新型氖气回收系统 hTGM，面向氟化氩（ArF）准分子激光器。公司称该系统可实现 50% 的氖气回收率，未来调整配置后还有望进一步提升。
IT之家 10 月 6 日消息，据科技媒体 Tom's Hardware 今天报道，日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 现已推出新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩（ArF）准分子激光器。
据报道，这套系统可实现 50% 氖气回收率，未来调整系统配置后，有望进一步提升回收效率。该技术有望弥补俄乌冲突后的芯片供应链缺口。2022 年前，乌克兰供应了全球半导体大约 50% 的氖气，后续被迫停止出口。
同时，全球约 70% 的氖气产量用于半导体制造，其中很大一部分应用于先进的深紫外（IT之家注：DUV）光刻工艺。在此之后，中国、韩国等地区均加大了氖气生产力度，多家芯片制造商也在晶圆制造流程引入了氖气回收系统。
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