美光预告 G11 NAND:超 400 层堆叠,双倍密度,2027 年下半年产能爬坡
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美光在 2026 年度技术网络研讨会上展望了 DRAM、HBM、NAND 与 SSD,其中披露 G11 NAND 预计于 2027 年下半年开始产能爬坡。该代产品堆叠超过 400 层,采用晶圆对晶圆键合技术,按面积计算的存储密度约为现有 276 层 G9 NAND 的两倍,I/O 速率最高可提升 1.5 倍,数据传输能耗可降低 25% 以上。
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IT之家 10 月 22 日消息,Micron(美光)当地时间昨日举行了 2026 年度技术网络研讨会,对 DRAM、泛 HBM、NAND 与 SSD 进行了展望,本篇关注闪存类别。

美光本次预告了其预计 2027 年下半年产能爬坡的 G11 NAND 闪存,这家企业似乎跳过了 G10 世代。

G11 NAND 堆叠超过 400 层,应用晶圆对晶圆键合技术,按面积计算的存储密度是现有 276 层 G9 NAND 的 2 倍左右,同时能实现至高 1.5 倍的 I/O 速率,数据传输能耗则可减少 25% 以上。

在 G11 之后,美光计划在 NAND 中导入突破性的高迁移率材料,实现超密集的单元架构,强化节能属性。

美光介绍了 2 种 AI-class 数据中心级 NAND 设计,分别是基于 SLC 的 GPU 直连 IOPS 优化产品、类似于 HBF 定义的带宽优化产品。

美光还展示了其全方位的 AI 优化存储解决方案。

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